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中企:再见了,ASML?

2022-06-03| 发布者: 遵化新闻网| 查看: 135| 评论: 1|文章来源: 互联网

摘要: ASML一直都希望在中国加快市场布局,但是和ASML预想中的不一样,因为无法做到EUV光刻机的自由出货,所以在更大......
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ASML一直都希望在中国加快市场布局,但是和ASML预想中的不一样,因为无法做到EUV光刻机的自由出货,所以在更大层面的高端芯片制造市场,ASML无法从大陆客户手中获得订单。

相反,中企已经开始深入国产供应链合作了,与各大国产半导体设备厂商加紧合作,国产半导体设备供应链也在持续发力。具体都有哪些进展表现呢?ASML还有哪些机会?

国产半导体设备供应链持续发力

中国不仅是全球最大的芯片消费市场,而且也是最大的半导体设备消费国。据《全球半导体设备市场统计报告》显示,我国在2021年全球半导体制造设备销售市场中占据第一,销售额高达296亿美元,相当于2010亿元人民币,同比增长58%。

这样的销售额表现和增长效果,都突出了中国市场有巨大的半导体制造设备消费需求。在整个的芯片制造行业中,有关的半导体设备供应商都在迎来强劲的出货表现。

结合国产半导体设备供应商的技术突破,交付验证进展等一系列的工作展开,在供应链当中取得了持续发力的效果,具体都有哪些进展表现呢?

需要清楚的是,半导体制造设备有非常多的种类,每一个芯片制造步骤流程都会有一个或多个的设备需求。

分别来看,至纯科技可以提供清洗设备,可用于28nm节点。预计在2022年期间14nm以及7nm工艺的设备可以提供客户进行验证,而至纯科技的客户包括中芯国际,长鑫存储等巨头。

另外在离子注入机方面凯世通也传出好消息。据悉,万业企业旗下的凯世通研发的高能离子注入机已经通过客户验证,验收,实现国内首台高能离子注入机进行晶圆厂验证。

不仅如此,中国电科旗下的装备子集团也实现28nm全谱系的离子注入机突破,覆盖中束流,大束流及高能等等。

何止这些,中微半导体的刻蚀机成功进入台积电5nm生产线,上海微电子实现国内首台3D/2.5D封装光刻机交付,盛美半导体实现18腔300mmUltraCVI单晶圆清洗设备量产,对沉积前清洗,聚合物清除等关键清洗作业有出色的表现。

随着这些国产半导体设备供应商,企业的发展,在各式各样的半导体制造设备当中都取得了显著的进展。有的已经交付实际产品,有的还在研制的路上。

就像国望光学已经开始为曝光系统生产项目公开招标了,一旦项目完成,那么国产光刻机设备将再添助力。

ASML还有哪些机会?

面对国内庞大的半导体设备销售市场,不难看见有许多国产厂商的身影。同时国外的半导体设备厂商ASML也在积极布局中国市场,表示会加快布局,保持和中国市场的开放合作。

但ASML有怎样的出货状态大家都知道,大部分的设备都能出货,唯独最高端的EUV光刻机不能向大陆客户提供。

ASML也阐明了这不是他们的选择,但实际情况就摆在眼前,面对中国半导体设备市场的发展增速,而国产厂商们的进展突破,如果ASML不积极开展布局,中企就要和ASML说再见了。

一旦大陆客户与大陆厂商强强联手,建立订单协议,采购包括光刻机在内的国产设备,ASML还有哪些机会呢?提供给ASML的机会选择并不是没有,大致来看主要包括两个。

第一个:加速新一代NAEUV光刻机的落地。

ASML已经打算采用高数值孔径系统用于下一代NAEUV光刻机,这是比普通EUV光刻机还要昂贵,先进及复杂的光刻机,预计价格将达到20亿元人民币。

但如此先进的设备,研制成功并量产都是不容易的。可要是ASML真的掌握NAEUV光刻机的量产,其在全球半导体设备行业的影响力会更加深厚。当然,前提是加速新一代NAEUV光刻机的落地。

第二个:维持现有中低端光刻机的合作。

ASML知道自己可自由出货的设备包括哪些,除了EUV光刻机设备之外,其余的设备都能自由供货。

比如DUV、ArF、KrF型号的光刻机,靠这些设备可以给ASML提供出货保障,用维持现有中低端光刻机的合作方式弥补无法自由出货EUV光刻机的问题。

不过中低端光刻机的需求量总会达到饱和,而且在技术难度方面,国产并非没有希望破冰,到时候ASML的中低端光刻机能否像往常一样迎来海量订单,就不得而知了。

中企在国产半导体设备产业链持续发力,国产厂商的设备也在提供给中企客户,包括光刻机同样迎来自主化发展需求。按照这种趋势发展下去,估计要说“再见了,ASML。”

至于ASML能否通过眼前的两个机会抓住市场契机,只能静观其变了。

对此,你们怎么看呢?欢迎留言和转发。



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